產(chǎn)品中心
型號
半導(dǎo)體/液晶面板刻蝕工藝所有零部件等離子涂層所用粉末原材料，以及半導(dǎo)體/液晶面板真空腔體陶瓷零部件制品。
應(yīng)用方向
刻蝕機(jī)腔體非釔基材表面涂層；陶瓷基體零部件原材料。
產(chǎn)品特點(diǎn)
氧化釔噴涂粉體，原晶粒度集中在80納米，晶格穩(wěn)定不吸碳，涂層強(qiáng)度達(dá)到45 MPa以上，晶內(nèi)空隙率低、晶格缺陷小、晶化程度高、晶格外延呈規(guī)律性周期變化的優(yōu)良粉體；在熔射法等離子噴涂領(lǐng)域，氧化釔具有小尺寸效應(yīng)，極易在瞬間熔融沾粘在基材表面，形成均勻較強(qiáng)的結(jié)合力；氧化釔分散性好，粒徑分布窄，對熱穩(wěn)定性高，涂層晶粒不易長大，涂層微粒之間力學(xué)性能好，抗外界侵蝕能力強(qiáng)；氧化釔，晶格完整不易形成缺陷中心吸附雜質(zhì)，涂層不會因本體吸碳泛紅。
產(chǎn)品用途
在芯片刻蝕過程中，刻蝕腔的環(huán)境良好對于芯片加工質(zhì)量和成本同樣起著關(guān)鍵作用。在刻蝕腔體的石英基材中涂覆氧化硅復(fù)合氧化釔（Si-Y-O）、在氧化鋁陶瓷表層噴涂氧化鋁復(fù)合氧化釔（YAG）及YOF和YF3，經(jīng)受刻蝕過程中高氟環(huán)境和熱輻射對基材的侵蝕。
